集成电路制造业洁净室设计的三大类型

文章出处：本站人气：1573 发表时间：2023-04-07

集成电路制造对无尘车间的生产环境有较为严格的要求，所以运行成本较高，不同的工艺制程对洁净室内洁净度的要求也各有不同，例如光刻要求在I级的微环境下需要达10级，而化学机械研磨则只要求达1000级的洁净度环境。并且洁净室风速、风量调节困难，系统升级改造困难，因此操作灵活性很低。根据洁净室车间空气循环的特点主要可分为三大类型：

集成电路制造业洁净室

（1）、循环风机配合湿式密封系统：设计可以满足集成电路制造无尘车间大面积高等级的要求，但运行成本较高，并且洁净室风速、风量调节困难，系统升级改造困难。

（2）、循环空调机配合高效送风口系统：小规模低等级要求的洁净室车间设计中被广泛应用，对于大面积高等级的洁净车间则存在运行成本过高、占用空间过大等缺点。

（3）、FFU循环系统：不仅节省运行空间、洁净度安全性高、运行成本低，而且操作灵活性很高，可以在不影响生产的情况下随时进行系统升级和调整，这些都很好地满足了半导体制造的需求，因此在半导体制造业FFU循环系统逐渐成为净化行业最主要的设计方案。

上一篇：集成电路制造业洁净室设计的三大类型下一篇：百级无尘车间的要求及如何施工